Бази даних


Наукова періодика України - результати пошуку


Mozilla Firefox Для швидкої роботи та реалізації всіх функціональних можливостей пошукової системи використовуйте браузер
"Mozilla Firefox"

Вид пошуку
Повнотекстовий пошук
 Знайдено в інших БД:Книжкові видання та компакт-диски (1)Реферативна база даних (3)
Список видань за алфавітом назв:
A  B  C  D  E  F  G  H  I  J  L  M  N  O  P  R  S  T  U  V  W  
А  Б  В  Г  Ґ  Д  Е  Є  Ж  З  И  І  К  Л  М  Н  О  П  Р  С  Т  У  Ф  Х  Ц  Ч  Ш  Щ  Э  Ю  Я  

Авторський покажчик    Покажчик назв публікацій



Пошуковий запит: (<.>A=Суховій Н$<.>)
Загальна кількість знайдених документів : 2
Представлено документи з 1 до 2
1.

Ляхова Н. М. 
Моделювання темплетних наноструктур [Електронний ресурс] / Н. М. Ляхова, В. І. Осінський, О. В. Семеновська, Н. О. Суховій, В. І. Тимофєєв, О. М. Фалєєва // Electronics and communications. - 2014. - Т. 19, № 5. - С. 32-36. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/eisv_2014_19_5_8
Мета даних досліджень - знаходження оптимальних параметрів наноутворень для зменшення проростаючих дислокацій в темплетних наноструктурах. Досліджено вплив розмірів темплетів на щільність дислокацій зміщення наноструктур, встановлено залежність висоти проростаючої дислокації від її радіуса, а також досліджено вплив розузгодження гратки наноструктури на умовно-бездислокаційний рельєф темплетних напівпровідникових наноутворень.
Попередній перегляд:   Завантажити - 357.016 Kb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
2.

Суховій Н. О. 
Дослідження застосувань нанотекстурованого сапфіру як темплету при MOCVD-гетероепітаксії ІІІ-нітридів [Електронний ресурс] / Н. О. Суховій, Н. М. Ляхова, І. В. Масол, В. І. Осінський // Реєстрація, зберігання і обробка даних. - 2018. - Т. 20, № 3. - С. 13–20. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/rzod_2018_20_3_4
Розглянуто придатність нанотемплетів текстурованого сапфіру в процесі MOCVD III-нітридів щодо застосування в GaN-фотодіодах ультрафіолетового (УФ) діапазону і для шарів акумулювання енергії. Визначено термодинамічні параметри (температуру, тиск) і прекурсори в процесі MOCVD для утворення нанотемплетів текстурованого сапфіру з радіусом нанопор (<< 10 нм) для формування низькодефектних гетероепітаксійних шарів III-нітридів. Зокрема, для епітаксіпних шарів p-GaN засвідчено низьку щільність проростаючих дислокацій (~5 x 10<^>6 см<^>-2) і продемонстровано, що УФ-GaN-фотодіоди Шоткі на таких нанотемплетах мали більш крутий довгохвильовий (375 - 475 нм) крап нормованої фоточутливості порівняно з фотодіодами без них. Проаналізовано придатність таких нанотемплетів для шарів акумулювання енергії, зокрема, для формування шарів низькодефектного нітриду бору, в які інкапсулюється графен, для виготовлення суперконденсаторів, а також для формування нанокарбідів і консолідованих фаз AlCN або BCN в MOCVD-реакторі в потоці триметилу алюмінію або триетилу бору відповідно, на поверхні таких нанотемплетів.
Попередній перегляд:   Завантажити - 625.068 Kb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
 
Відділ наукової організації електронних інформаційних ресурсів
Пам`ятка користувача

Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського